G+H调制器I-M0XX-XC11B76-P5-GH105

该调制器由锗制成，非常适合高功率 CO 激光器的腔外调制或功率控制。将单晶锗、高质量光学精加工、坚固的抗反射 (AR) 涂层和高可靠性换能器接合与新颖的声学管理和光机械设计技术相结合，我们成功实现了良好的热管理，同时保持高射频功率处理、传输和衍射效率。

• 高光功率处理能力
• 低插入损耗
• 良好的指向稳定性
• 良好的光束质量
• 高衍射效率

• 产地：英国
• 波长：5.5微米
• 工作频率：40.68兆赫、60兆赫
• 主动光圈：9.6毫米
• 上升/下降时间：120纳秒/毫米
• 光学材料：锗
• 光功率密度：最大：30 W/mm²（推荐）
• AR镀膜反射率：每个表面 < 0.2% (<0.5% 5.25-5.75 µm)
• 传播：> 98%
• 光偏振：线性、水平（平行于底座）
• 声学模式：压缩性
• 分离角：40.68 MHz 时为 41 mrad，60 MHz 时为 60 mrad
• 衍射效率：≥90%
• 射频功率：最大：50W