Planarcore 的PVA 刷设计用于在 CMP 后晶圆清洁应用中提供高性能和晶圆间的一致性。自创的穿芯模塑技术可使 PVA 与刷芯适配粘合,而不像标准 PVA 产品那样仅通过摩擦安装到刷芯上。一次性 Planarcore PVA 刷的尺寸稳定性还消除了与独立和预安装 PVA 产品相关的不确定性。由于 Entegris 的 Planarcore PVA 刷性能高,PVA 滑动、膨胀和同心度下降不再是问题。
减少工具停机时间:模压穿芯技术确保每次都能适配贴合。无需担心操作错误或不一致。由于刷与刷之间的尺寸稳定性和同心度不会发生变化,因此间隙处理更快、更容易。从头部晶片到尾部晶片,Planarcore 刷子和间隙都保持不变,确保了工艺的稳定性。Planarcore 电刷制造过程中的有效清洁流程缩短了晶圆冲洗和电刷磨合时间。更快的 CMP 工具启动可提高产量。
减少晶片上的缺陷:更清洁的 PVA、尺寸一致性和流量均衡可减少晶圆上的颗粒数,从而实现业内一致的晶圆性能。
将整个 Planarcore 刷(包括刷芯)浸没在 1 升 18 MΩ 去离子水中并挤压,以确保任何可能的污染都能很好地分布。然后用离子色谱法提取残留的去离子水。
高纯度 PVA
通过模芯结构成型
消除对齐和间隙问题,提高系统产量
闭模技术
减少工具停机时间
减少晶片上的缺陷
PVP1ARXR1:Planarcore AMAT Reflexion PP 铁芯,H2O2
PVP1AMMR1:Planarcore AMAT Mirra Mesa PP 内核,H2O2
PVP0ARXR1:Planarcore AMAT Reflexion PP 内核,NH4OH
PVP0AMMR1:Planarcore AMAT Mirra Mesa PP-核,NH4OH
产地:美国
芯材/边材结构材料:全聚丙烯结构
刷子结构材料:聚乙烯醇(PVA)
防腐剂:0.5 % H2O2 或 NH4OH
产品清洁度:
氟化物:F-,< 0.50 ppm(百万分之一)
氯化物:Cl-,< 0.75 ppm
硝酸盐:NO3-,< 0.50 ppm
磷酸盐:PO43-,<0.50 ppm
硫酸盐:SO42-,<0.50 ppm
锂:Li+,< 0.10 ppm
钠:Na+,< 0.50 ppm
钾:K+,< 0.80 ppm
镁:Mg2+,< 0.20 ppm
钙:Ca2+,<0.50 ppm
外径尺寸:70 mm ±1.0 mm
同心度尺寸:< 0.76 mm(0.03 英寸)
PVA 典型特性:
30 % 压缩应力:90 g/cm2
孔隙率:87-91 %
吸水率:700-1100 重量百分比
孔径:70-250 μm(通过 SEM 扫描仪检测)
PVA 刷的应用:后 CMP
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