ENTEGRIS臭氧气体净化器GPUS200TOZ04R12CA

优良的挥发性金属净化和颗粒过滤功能。GateKeeper GPU 臭氧气体净化器能有效减少臭氧气体中的固态和挥发性金属，如铬（Cr）和锰（Mn）。这些新型的净化器大大减少了晶片上的金属污染，提高了产量。新型的气体净化技术使铬的挥发去除率大于 99 %，这意味着臭氧气体输送系统所需的调节时间可以大大缩短。除了大幅缩短工具启动时间（取决于净化器的安装点）外，集成了 PTFE/PFA 颗粒过滤膜的净化器还有助于消除调节后的金属溢出，大大降低了金属污染造成晶片缺陷的风险。

新型的气体净化技术使铬的挥发去除率大于 99 %，大大减少了臭氧气体输送系统所需的调节时间

集成式 PTFE/PFA 过滤器可在介质净化后立即去除颗粒，从而减少晶片颗粒，并消除了对独立过滤器的需求

紧凑的直列式设计，采用垫片密封，便于快速安装

产地：美国

滤膜材质：聚四氟乙烯

净化介质材质：多孔无机材料

外壳材质：316L 不锈钢

内部表面处理：Ra <0.17 µm（电抛光）

截留挥发性金属：铬Cr和锰Mn

挥发性金属去除率：铬Cr > 99 %

颗粒：≥ 0.003 µm 的颗粒> 99.9999999 %

连接：1/4 "垫片密封

气体：臭氧 (O₃) < 300 g/Nm³ 浓度

入口铬Cr金属含量：<1 ppm

建议流量：5 至 25 slm

外壳设计压力：0.99 MPa (143.5 psig) @ 40 °C (104 °F)

臭氧气体净化条件

压力：20 kPa (2.9 psi)

温度：20 至 30 °C (68 至 86 °F)

化学气相沉积（CVD）工具、干法蚀刻/清洗工具、湿法蚀刻和清洗 (WEC) 工具