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高纯度控制。Entegris 的 GateKeeper GPU 气体纯化器专为提高纯度一致性、使用寿命和高纯度气体至关重要的微电子应用中的纯度而设计。利用我们在材料科学方面的研发知识,我们开发出了新一代 AP 气体净化产品,具有很高的价值和性能。过程控制和保护,纯度控制在低于十亿分之一 (ppb) 的水平;通过净化器的压降很低;通过压力设备指令 (PED) 的 CE 认证;在 ISO 9001:2015 工厂制造。成本效益高,使用寿命长 - 降低拥有成本。使用保障简单,采用环境温度净化 - 无需加热或供电即可运行;对方向(水平/垂直)不敏感
纯度达到 ppt 级
兼容多种气体,包括 Cl2、HBr、HCl、CF4、SO2、SF6 等腐蚀性气体
净化器压降低
通过 CE 认证,符合压力设备指令 PED,在 ISO 9001-2000 工厂制造
可再生 - 解决了处理问题并降低了成本
使用寿命长--提高了拥有成本
使用环境温度净化
该组件包含额外的阀门和管道,以便工艺气体可以绕过净化器。Entegris 为许多标准 GPU 气体净化器提供 3 阀门和 5 阀门旁路组件(需单独购买)。
产地:美国
净化气体:AsH3、PH3
H2O出口纯度:< 1 ppbV
O2出口纯度:<1 ppbV
金属出口纯度:< 1 ppbV
出口颗粒过滤器:Wafergard - 316 不锈钢膜,20 μm 或 0.0015 μm
使用寿命:在入口湿度为 0.5 ppm 时为一年,寿命随入口杂质和流速而变化。
可再生:否
危险品 (DG):否
工作温度:0 至 65 °C (32 至 149 °F)
泄漏等级:1 × 10-9 atm cc/sec of He
外壳材质:316L 不锈钢
符合认证:CE 认证,符合压力设备指令 (PED);设计符合 ASME 标准。
散装气体输送、光刻、外延、干法蚀刻、晶片生长、沉积
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