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ENTEGRIS气体净化器LPDF 10R R4

用于去除光刻应用中的碳氢化合物、酸和碱 。Luminousgard 使用点在线气体净化器可有效去除气体中的碳氢化合物以及有机物、酸碱杂质和颗粒。这些超纯活性精度气体过滤器对于净化半导体制造工艺中光刻应...

产品介绍

用于去除光刻应用中的碳氢化合物、酸和碱 。Luminousgard 使用点在线气体净化器可有效去除气体中的碳氢化合物以及有机物、酸碱杂质和颗粒。这些超纯活性精度气体过滤器对于净化半导体制造工艺中光刻应用的净化气体尤为有效。

性能特点

可去除 CDA、N2、Ar 和 He 气体中的杂质

优良的初始清洁度

有效去除气流中的微粒

无需电源即可使用

多种型号适用于各种流速

选型指南

LUMINOUSGARD 气体净化器:Max流量 30 slpm

LUMINOUSGARD 1000 气体净化器:Max流量 200 slpm

LUMINOUSGARD 2000 气体净化器:Max流量 500 slpm

LUMINOUSGARD 4000 气体净化器:Max流量 800 slpm

订购编号LPDF 10R R4:Luminousgard 1000气体净化器 1/2 "垫片密封(兼容1/2 "VCR)公头

订购编号LPDF 10S S4:Luminousgard 1000 气体净化器 1/2" 压缩密封件(兼容 1⁄2" Swagelok卡套管接头)

技术参数

产地:美国

滤芯材质:PTFE/PFA

外壳材质:316L/304 不锈钢

截留率

挥发性碳氢化合物:≥ 99.9 % (≥ C6 碳氢化合物)

挥发性酸:≥ 99.9 %(如 SO2、SO3、NO2、HCl、H2S)

挥发性碱:≥ 99.9 %(如 NH3、CH3NH2、[CH3]3N)

颗粒:≥ 99.9999999 % 清除所有 ≥ 0.003 µm 的颗粒

初始下游清洁度

挥发性物质:≤ 1 ppb (≥C6 挥发性碳氢化合物数量 @ 1 slpm)

微粒:≤ 0.03 微粒/L ≥ 0.01 µm @ 30 slpm

入口/出口连接:1/2 英寸垫片密封(1/2 英寸 VCR 兼容)外螺纹接头

气体类型:CDA、N2、Ar 和 He

Max流速:200 slpm

设计压力:0.98 兆帕(9.8 巴,142.1 psig)@ 25 °C (77 °F)

Max设计正向压差:0.7 兆帕(7 巴,101.5 psid)@ 25 °C (77 °F)

Max设计反向压差:0.25 兆帕(2.5 巴,36.3 psid)@ 25 °C (77 °F)

Max工作温度:50 °C (122 °F) - 惰性气体

大约产品重量:3.21 kg(7.08 磅)

使用寿命:准确确定使用寿命需要流量、占空比、杂质类型和杂质浓度。

产品尺寸

产品应用

洁净干燥空气 (CDA)、曝光设备的镜头吹扫气体管路、激光发生器的清洗气体管路、惰性气体供应管路


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