ENTEGRIS气体扩散器FV50D XL

快速减少装载锁和传送室中的颗粒和排气时间。FV50D XL 扩散器可大限度地缩短加载锁定排气周期时间，从而可靠地提高系统吞吐量。这种二代扩散器可以承受更高的工作压力（60 psig），额定循环次数为 100 万次，从而大大提高了性能，降低了拥有成本。

我们的 Chambergard 系列产品可快速向大气排气，而不会干扰或增加腔室内晶片的颗粒。它们将扩散器的流动特性与过滤器相结合，提高了效率和产量。凭借我们的全球基础设施，我们可以在全球范围内提供 Chambergard 快速排气扩散器，以满足您的需求。

额定循环次数为 1,000,000 次，可在更高的入口压力下运行

在紧凑型扩散器中采用烧结镍专利技术，可在所有应用中提供高性能

从输入气体中去除大于 0.0015 µm 的颗粒，大限度地减少晶片缺陷

易于安装/改装到现有工具中，大限度地减少停机时间

订购编号CG2 NDD 050R2：Chambergard FV50D XL

产地：美国

扩散元件：烧结镍膜过滤器

外壳材质：316 L 不锈钢

内表面光洁度：≤ 32 μin Ra

O 形圈材料：氟橡胶

尺寸：2-229

沟槽内径：59.9 mm（2.36 英寸)

沟槽外径：67.9 mm（2.67 英寸）

沟槽深度：2.6 mm（0.10 英寸）

入口连接方式：1⁄4 英寸 VCR 兼容外螺纹垫圈密封接头

出口连接方式：ISO NW50 隔板安装，兼容标准 ISO 隔板夹

下游清洁度：清洁度小于 0.03 颗粒/L（<1 颗粒/ft³） > 0.01 μm 额定流量

去除率：≥ 0.0015 μm

出口为真空时的Max入口压力：4 巴（60 psig）

Max压差：5 巴（75 psid）

Max工作温度：100 °C (212 °F) （带 O 形圈）；400°C (752°F) （不带 O 形圈

保修期：2 年

将气体快速排放到大气中，不会干扰腔室内的晶片或增加晶片颗粒